化學鎳廠家告訴你，第四代鍍鎳光亮劑的主要優(yōu)點為出光快、高整平，有的產品光亮范圍很寬。一般鍍3～5min即能達到較滿意的光亮整平性。有的產品加有雜質掩蔽劑，對銅、鉛等雜質容忍度高。由于售品種類繁多，魚龍混雜，技師參差不齊;有的產品顧及成本，并未體現出第四代鍍鎳光亮劑的長處。目前，第四代鍍鎳光亮劑反映出的問題有以下幾方面:

一、中間體多為含硫化合物，因此鍍層活性高。優(yōu)點是:與半光亮鎳組成雙鎳時易達到120mV以上電位差的要求，缺點是:鍍層本身耐蝕性不大好。筆者曾經作過試驗:在不銹鋼試片上鍍亮鎳，然后在1∶1(體積比)鹽酸中浸泡，用BE類加糖精獲得的鍍層，浸泡很久不會變色;而用含吡啶衍生物之類的第四代鍍鎳光亮劑加糖精獲得的鍍層，浸泡一段時間，鍍層開始發(fā)暗，進而發(fā)黑并有小氣泡產生，鎳層發(fā)生溶解，后鍍層完全溶于鹽酸中。

二、光亮劑的消耗量大于第三代產品，加之售價普遍較高，因此在鍍鎳總成本中添加劑的相對成本比例增加。但因出光快、高整平、光亮范圍寬，因而可以縮短鍍鎳時間?；瘜W鎳廠家告訴你，這樣，一是減少了昂貴鎳的消耗，二是提高了生產效率，總的成本仍然下降，受到普遍歡迎。但應當說，適用于外觀要求高而抗蝕要求不高的裝飾產品，特別是采用厚銅薄鎳工藝的產品。要兼顧抗蝕性，則至少應采用雙鎳，且半光亮鎳層應有足夠的厚度和相當低的孔隙率。高整平與快消耗是共生的，因為整平作用本身就得靠光亮劑在陰極的還原來產生，因此這是難以克服的問題。

三、市售的一些產品存在的問題。不少產品的組分配比是根據單組分的安培小時消耗量折算而成的比例，并未經大生產長期考驗，因而比例不當。由于協(xié)同效應要求的比例不等于其比例，大生產的情況遠比實驗室復雜，因此使用兩三個月后比例即失調，效果變差，用戶不知其組成及作用，無法調整，甚至添加劑生產廠家也無經驗調好，只好叫用戶大處理后重新添加。化學鎳廠家告訴你，但大處理未必就能完全去除所有組分，殘存的某些組分又會造成比例失調。其二、光亮劑中水分太重或有的廠家出于成本考慮，盡量選用價格低的中間體原材料配制，因而消耗量太大。實際消耗量遠遠大于說明書上標稱的千安小時消耗量(包括某些進口光亮劑)，要想按安培小時數自動加料，就有困難。其三、有的配伍和配比并不好，加多了高區(qū)發(fā)霧，低區(qū)發(fā)暗，有的實際上為第四代與第三代光亮劑的混合物。這些，并非第四代光亮劑的固有問題，而是光亮劑的研制和生產出了問題。